掩模對準曝光機又名光刻機，用光來制作一個圖形工藝，將掩模版上的圖形轉(zhuǎn)移光刻膠上的過程將器件或電路結(jié)構(gòu)臨時復制到硅片上的過程。半導體制造過程中復雜也是難的步驟就是光刻，光刻機也因此成為重要的半導體制造設備，研發(fā)的技術門檻和資金門檻非常高，是復雜的機器之一。

 

　　掩模對準曝光機一般根據(jù)操作的簡便性分為三種，手動、半自動、全自動

　　1、手動：指的是對準的調(diào)節(jié)方式，是通過手調(diào)旋鈕改變它的X軸，Y軸和thita角度來完成對準，對準精度可想而知不高了；

　　2、半自動：指的是對準可以通過電動軸根據(jù)CCD的進行定位調(diào)諧；

　　3、自動： 指的是 從基板的上載下載，曝光時長和循環(huán)都是通過程序控制，自動光刻機主要是滿足工廠對于處理量的需要。

　　掩模對準曝光機的對準系統(tǒng)：

　　制造高精度的對準系統(tǒng)需要具有近乎完美的精密機械工藝，這也是國產(chǎn)設備*的技術難點之一，許多美德品牌的設備具有特殊的機械工藝設計。

　　對準系統(tǒng)另外一個技術難題就是對準顯微鏡。為了增強顯微鏡的視場，許多的設備，采用了LED照明。

　　對準系統(tǒng)共有兩套，具備調(diào)焦功能。主要就是由雙目雙視場對準顯微鏡主體、目鏡和物鏡各1對。

　　CCD對準系統(tǒng)作用是將掩模和樣片的對準標記放大并成像于監(jiān)視器上。

　　工件臺顧名思義就是放工件的平臺，光刻工藝主要的工件就是掩模和基片。

　　工件臺為掩模對準曝光機的一個關鍵，由掩模樣片整體運動臺（XY）、掩模樣片相對運動臺（XY）、轉(zhuǎn)動臺、樣片調(diào)平機構(gòu)、樣片調(diào)焦機構(gòu)、承片臺、掩模夾、抽拉掩模臺組成。

　　其中，樣片調(diào)平機構(gòu)包括球座和半球。調(diào)平過程中首先對球座和半球通上壓力空氣，再通過調(diào)焦手輪，使球座、半球、樣片向上運動，使樣片與掩模相靠而找平樣片，然后對二位三通電磁閥將球座和半球切換為真空進行鎖緊而保持調(diào)平狀態(tài)。

　　樣片調(diào)焦機構(gòu)由調(diào)焦手輪、杠桿機構(gòu)和上升直線導軌等組成，調(diào)平上升過程初步調(diào)焦，調(diào)平完成鎖緊球氣浮后，樣片和掩模之間會產(chǎn)生一定的間隙，因此必須進行微調(diào)焦。另一方面，調(diào)平完成進行對準，必須分離一定的對準間隙，也需要進行微調(diào)焦。

　　抽拉掩模臺主要用于快速上下片，由燕尾導軌、定位擋塊和鎖緊手輪組成。

　　承片臺和掩模夾是根據(jù)不同的樣片和掩模尺寸而進行設計的。