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岱美儀器:以多元技術構建薄膜厚度測量新范式

更新時間:2025-10-11  |  點擊率:287
  在半導體制造、光學鍍膜、新能源材料等精密工業(yè)領域,薄膜厚度的精準控制直接決定產(chǎn)品性能。岱美儀器技術服務(上海)有限公司憑借二十余年技術積淀,構建起覆蓋機械接觸、光學干涉、光譜反射三大技術路徑的薄膜厚度測量體系,為行業(yè)提供從實驗室研發(fā)到生產(chǎn)線量測的全場景解決方案。

  1.機械接觸式測量:納米級精度的“觸覺感知”
  針對金屬鍍層、硬質涂層等場景,岱美采用高精度探針式臺階儀。其核心部件為金剛石針尖探針,通過垂直位移傳感器記錄探針在膜層表面的微米級起伏。例如在半導體引線框架的鍍金層測量中,設備以0.1mm/s掃描速度、0.1μm采樣間隔,配合0.1-10mN接觸力控制,可精確捕捉50nm-10μm厚度的階梯變化。該技術通過多點校準消除探針磨損誤差,在汽車電子連接器鍍層檢測中實現(xiàn)±0.05μm重復性精度。
  2.光學干涉式測量:光波解碼的“透明革命”
  對于光學鏡片、濾光片等透明膜層,岱美部署白光干涉儀與橢偏儀雙技術路線。白光干涉儀利用200-1000nm寬波段光源,通過分析反射光干涉圖樣計算膜厚。在AR鍍膜手機鏡片生產(chǎn)中,設備以75°入射角掃描,結合Cauchy模型擬合,可在3秒內(nèi)完成5×5點陣測量,均勻性CV值≤1.5%。橢偏儀則通過p/s偏振光相位差分析,精準獲取1-500nm超薄膜的折射率與厚度,在OLED發(fā)光層制備中實現(xiàn)±0.1nm級控制。
  3.光譜反射式測量:穿透不透明的“光譜密鑰”
  針對半導體硅晶圓、厚光刻膠等不透明材料,岱美推出FilmetricsF3-sX系列光譜反射儀。該設備采用980-1550nm近紅外光,通過測量反射光譜的相位調制,破解3mm厚SU-8光刻膠的內(nèi)部結構。在8英寸晶圓厚度檢測中,10μm直徑光斑可穿透非透明膜層,結合Tauc-Lorentz模型,在0.5秒內(nèi)完成全片厚度分布映射,重復性偏差<0.3μm。其嵌入式診斷系統(tǒng)還能實時監(jiān)測膜層應力,為工藝優(yōu)化提供數(shù)據(jù)支撐。
  從接觸式探針的“觸覺感知”到光譜反射的“穿透解析”,岱美儀器以多元技術矩陣打破測量邊界。其設備不僅通過ISO17025認證,更深度融入半導體、光電、新能源等產(chǎn)業(yè)的量產(chǎn)閉環(huán),用精準的“厚度語言”書寫著中國精密制造的新篇章。

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